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分类：磁控溅射

磁控溅射镀膜仪有没有辐射？

2020-08-19

磁控溅射仪当然有辐射，1、可见光波段：阴极发射的电子电离介质气体分子，分子/原子光谱。这些光密度不大，不至于刺伤钛合金狗眼.属于无害辐射。2、不可见光波段：阴极发射的电子电离介质气体分子，红外/紫外，分子/原子光谱。紫外辐射有害3、X射

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本底真空对磁控溅射的影响？

2020-08-12

磁控溅射，磁场操控的二级溅射。原理是将靶材周围的气体电离化，构成等离子体，在等离子体环境中溅射进程。归于气体放电领域。优质的膜层需求操控膜层的安稳性和均匀性，而体现在操控方面，则表现为：磁场、气场、电源。1.磁场的安稳：靶芯的磁场的均匀性。

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关于磁控溅射镀膜系统的操作规范

2020-07-21

磁控溅射镀膜系统的操作规范：1.正常工作的磁控溅射镀膜系统在开动时，需要先将水管打开，在磁控溅射镀膜系统运行之中要时刻注意水压的状态；2.在离子轰击和蒸发时，要特别注意线路方面的情况，不得触动高压线头，以防触电；3.在用磁控溅射镀膜系统的电

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浅析磁控溅射镀膜工艺的概念及分类

2020-07-21

溅镀，通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜系统要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电(

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浅析蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别

2020-07-21

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子束溅射系统。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，

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新材料的开发带动磁控溅射镀膜技术的发展

2020-07-21

近年来，随着新材料的开发，尤其是薄膜材料的发展和应用，带动控溅射沉积技术的飞速发展，在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了控溅射沉积镀膜技术的工艺过程及其发展情况，各种主要磁控溅射镀膜仪的特点，并介绍磁控溅射技术在

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